一．利用低壓等離子體輝光放電技術(shù)在350～450℃之間對(duì)奧氏體不銹鋼后卡進(jìn)行滲氮表面強(qiáng)化，在壓強(qiáng)100～150KPa，處理60～100分鐘即可得到厚度10～30 um左右的高硬度的氮過(guò)飽和奧氏體固溶體強(qiáng)化層．采用X射線衍射、電子探針及俄歇譜儀等對(duì)滲層進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析表明，在處理溫度低于450℃時(shí)，滲層為單相氮過(guò)飽和奧氏體固溶體層，顯微硬度達(dá)到IOOOHV，與原基體材料相比，耐磨性提高了2～3倍。 

二．利用低壓等離子體輝光放電技術(shù)在350～450℃之間對(duì)奧氏體不銹鋼后卡進(jìn)行快速滲碳表面強(qiáng)化，在壓強(qiáng)100～150KPa，處理60～100分鐘即可得到厚度10～30 u m左右的高硬度的碳過(guò)飽和奧氏體固溶體強(qiáng)化層．采用X射線衍射、電子探針及俄歇譜儀等對(duì)滲層進(jìn)行結(jié)構(gòu)分析表明，在處理溫度低于450℃時(shí)，滲層為單相碳過(guò)飽和奧氏體固溶體層，顯微硬度達(dá)到900HV，與原基體材料相比，耐磨性提高，抗咬合性能得到改 善。